シリコン カーバイド基板用 クリーニング ソリューション
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- CMP
仕様書
製品名 | アプリケーション |
TCL 185/186 | パッドおよびウェーハ用洗浄液。CMP スラリー酸化剤の中和に非常に効果的です。 |
SNST-CLN3/5 | パッドおよびウェーハ用洗浄液。酸化剤を中和し、ウェーハ上の粒子数を減らします。 |
PCL 565 | 業界をリードする SiC 用の洗浄液で、さまざまなプロセスで発生する表面汚染における優れた粒子低減に最適化されています。 |
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