QuickChange® NX フィルター
- 半導体、フラットパネルディスプレイ、データストレージ、LED製造
- 洗浄・剥離、薬液供給
- 反応性の高い酸・アルカリ、溶剤
- 装置の使用点、原材料
仕様書
カートリッジ、 ケムラインタイプ ディスポーザブル | |||||||
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クイックチェンジNXT/NXX/NXM | クイックチェンジ NXE | クイックチェンジ NX3 | |||||
材質: | メンブレン | Non-dewetting PTFE | Non-dewetting PTFE | Non-dewetting PTFE | |||
サポート、コア、スリーブ、エンドキャップ | PFA | PFA | PFA | ||||
O-リング (AS568-222、カートリッジのみ) | 被覆フッ素ゴム(E-FKM)、被覆ETP(E-ETP)、 カルレッツ、ケムラッツ | 被覆フッ素ゴム(E-FKM)、被覆ETP(E-ETP)、 カルレッツ、ケムラッツ | 被覆フッ素ゴム(E-FKM)、被覆ETP(E-ETP)、 カルレッツ、ケムラッツ | ||||
ハウジング (ディスポーザブルのみ) | PFA | PFA | PFA | ||||
除粒子径: | 0.03、0.05、0.1、0.2 µm | 15 nm、0.03、0.05、0.1、0.2 µm | 15 nm |
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膜面積: | NXT 10": 0.9 m2、20": 1.8 m2、30": 2.7 m2 NXX 4": 0.5 m2、10": 1.3 m2、20": 2.6 m2 NXM 10": 1.8 m2、20": 3.6 m2 | 10": 15 nm: 2 m2 0.03 - 0.2 µm: 2.2 m2 20": 15 nm: 4 m2 0.03 - 0.2 µm: 4.4 m2 | 10": 3 m2 20": 6 m2 | ||||
使用条件: | 最高使用圧力 | 0.58 MPa @ 25 ºC、0.097 MPa @ 200 ºC | 0.58 MPa @ 25 ºC、0.097 MPa @ 200 ºC | 0.58 MPa @ 25 ºC、0.097 MPa @ 200 ºC | |||
最大許容正差圧 | 0.44 MPa @ 25 ºC、0.05 MPa @ 200 ºC | 0.44 MPa @ 25 ºC、 0.05 MPa @ 200 ºC | 0.44 MPa @ 25 ºC、 0.05 MPa @ 200 ºC | ||||
最大許容逆差圧 | 0.34 MPa @ 25 ºC | 0.34 MPa @ 25 ºC | 0.34 MPa @ 25 ºC | ||||
最高使用温度 | 200 °C | 200 °C | 200 °C | ||||
金属抽出物: | 試験対象金属 | 標準: 10 種類 UCM: 12 種類 | 標準: 10 種類 UCM: 12 種類 | 標準: 10 種類 UCM: 12 種類 | |||
その他の抽出物: | 標準 / UCM: TOC、CI | 標準 / UCM: TOC、CI | 標準 / UCM: TOC、CI |
スモールディスポーザブル: | |||||
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クイックチェンジNX 1000 / 1500 / 3000 | |||||
材質: | メンブレン | Non-dewetting PTFE | |||
サポート、コア、スリーブ、エンドキャップ | PFA | ||||
ハウジング | PFA | ||||
除粒子径: | 15 nm、0.03、0.05、0.1 µm | ||||
膜面積: | NX 1000 | 0.03 - 0.1 µm: 0.1 m2 | |||
NX 1500 | 15 nm: 0.19 m2、0.03 µm: 0.18 m2、 | ||||
NX 3000 | 15 nm: 0.44 m2、0.03 µm: 0.45 m2、 0.05 µm: 0.3 m2、0.1 µm: 0.3 m2 | ||||
使用条件: | 最高使用圧力 | 0.44 MPa @ 25 ºC、0.19 MPa @ 95 ºC | |||
最大許容正差圧 | 0.39 MPa @ 25 ºC、0.19 MPa @ 95 ºC | ||||
最大許容逆差圧 | 0.29 MPa @ 25 ºC | ||||
最高使用温度 | 95 °C | ||||
金属抽出物: | 標準* | 10種類の金属について試験 | |||
UCM | 12種類の金属について試験 | ||||
その他の抽出物: | 標準およびUCM | TOC、CI | |||
* 孔径15 nmのクイックチェンジNX 1500および3000は、高清浄品(UCM)のみです。標準品はありません。 |
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