Wafergard® SL 1.125" C-Seal 集積 ガスフィルター
- ガスパネル
- 超高純度ガスライン
- 高温のアプリケーション
- 脈動のかかるアプリケーション
- 不活性ガス、ハイドライドガス、CO2 ガス用にはステンレススチール製フィルター、不活性ガスおよび反応性ガス用にはニッケル製フィルター
仕様書
材質 | フィルター部: | NF タイプ - 焼結ニッケル SF タイプ - 焼結ステンレススチール |
ハウジング、ベースブロック: | 316L ステンレススチール (電解研磨、SEMI® F20 準拠) | |
入口/出口接続 | サーフェイスライン 1.125" C-Seal | |
除粒子径 | > 0.0015 μm | |
内面粗度 | < 5 μin Ra | |
He リークレート | 認定値: 2 x 10-10 cc/sec | 試験値: 1 x 10-9 cc/sec |
二次側清浄度 | 粒子* | 0.01 μm 以上の粒子が 0.03 個/L 以下 |
揮発性物質** | H2O、O2、THC の放出ガスは検出限界未満 (室温での RGA と FID による) | |
除粒子性能 | NF タイプ - すべての粒子を 99.9999999 % 以上 (最も通過しやすい粒子サイズ) | |
SF タイプ - すべての粒子を 99.9999 % 以上 (最も通過しやすい粒子サイズ) | ||
使用条件 | 常用圧力 | 1 MPa 未満 @ 20°C (日本国内では高圧ガス保安法が適応されます。 1 MPa 以上で使用する場合は、お問い合せ下さい。) |
最大許容正/逆差圧 | 1 MPa @ 23 °C | |
NF ミニ、NF ミニ XL: 0.8 MPa @ 23 °C | ||
最高使用温度 | 不活性ガス: 400 °C | |
腐食性および反応性ガス: 50 °C | ||
* 粒子清浄度 (SEMASPEC 試験法に準拠): 粒子シェディング (#93021511A-STD) ** 揮発性物質の清浄度 (SEMASPEC 試験法に準拠):THC (#90120396B-STD)、水分 (#90120397B-STD)、酸素 (#90120398B-STD) |
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