窒化膜用スラリー
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- 窒化物基板や窒化物エピタキシャル層の CMP / ラッピング
- すべての表面タイプ (ラッピングまたは機械研磨)
仕様書
スラリー | プロセス | 最適な研磨面 | 主な機能 | 研磨レート |
GN 1000 シリーズ | CMP | Ga 面および N 面 | 最終仕上げにおける低い表面粗さと低欠陥率:Ra < 0.2 nm | 0.5 ~ 1.0 µm/hr (Ga 面) 2.0 ~ 2.5 µm/hr (N 面) |
GN 2000 シリーズ | CMP | Ga 面 | Ga 面における最適化された表面粗さ | 0.7 ~ 1.3 µm/hr |
GN 3000 シリーズ | ラッピング | Ga 面および N 面 | バルク研磨およびラッピングにおける高い除去性能のスラリー | 20 ~ 25 µm/hr |
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