Wafergard® III NF ミニ/ミニXL インライン ガスフィルター
- 高純度ガスライン
- ドライプロセス装置
- 新規ファブ設備
- 高温および圧力変動のあるアプリケーション
- シリンダーキャビネット低圧側
仕様書
材質 | フィルターエレメント | 焼結ニッケル製メンブレン | |
ハウジング | Low Sulfur 316L ステンレススチール | ||
内面粗度 | Ra < 0.17 µm | ||
粒子捕捉率 | 0.0015 µm 以上の粒子を 99.9999999 % 以上 (120 L/min @ 20 °C, 101 kPa) | ||
粒子清浄度 | 0.01 µm 以上の粒子が 0.03 個/L 以下 (120 L/min @ 20 °C, 101 kPa) | ||
Heリークレート | < 9 x 10-10 Pa・m3/sec | ||
使用条件 | 常用圧力* | 1 MPa 未満 (設計圧力 16.2 MPa @ 40 °C) | |
最大許容正差圧/逆差圧 | 2 MPa | ||
最高使用温度 | 400 °C (不活性ガス) | ||
流量 | 性能データをご確認ください |
*日本国内では高圧ガス保安法が適用されますので、1 MPa以上でご使用の場合は、事前に弊社までお問い合わせ下さい。
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